中微公司申请一种静电吸盘等离子体处理装置及方法专利通过抽气通道将缝隙内的气体抽出至反应腔外部使缝隙内的气压低于设定的气压阈值

中微公司申请一种静电吸盘等离子体处理装置及方法专利，通过抽气通道将缝隙内的气体抽出至反应腔外部，使缝隙内的气压低于设定的气压阈值

金融界2024年6月21日消息，天眼查知识产权信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种静电吸盘、等离子体处理装置及方法“，公开号CN202211634533.6，申请日期为2022年12月。专利摘要显示，本发明提供一种静电吸盘，用于等离子体处理装置的真空反应腔，所述静电吸盘包含：基座，其包含基座本体和设置在基座本体的顶面的凸台；边缘环组件围绕在凸台的外周，边缘环组件的内边缘与凸台的外边缘之间具有一个缝隙；介电层，设置在凸台的上表面，介电层的内部设有产生静电力的电极；基座的内部具有至少一个抽气通...